Titano tikslinės medžiagos

1. Apžvalga
Tikslinė medžiaga reiškia medžiagą, kurią bombarduoja didelės energijos dalelės, tokios kaip dulkinimo nusėdimas. Tikslai gali būti suskirstyti į metalinius, lydinius ar oksido tipus. Keičiant tikslinę medžiagą (pvz., Aliuminį, vario, nerūdijantį plieną, titaną, nikelį), gali būti sukurtos skirtingos plonos plėvelės sistemos, tokios kaip ypač sunkūs, susidėvėję atsparūs ar korozijai atsparios lydinio dangos.

(1) Metaliniai taikiniai:
Nikelis (Ni), titanas (Ti), cinkas (Zn), chromas (Cr), magnis (mg), niobium (NB), alavas (Sn), aliuminis (Al), indis (in), geležis (Fe), zirconium-aluminum (zral), titanium-aluminium (tial), ziral) (Alsi), silicis (SI), vario (Cu), tantalum (TA), germanis (GE), sidabras (AG), kobaltas (CO), auksas (Au), Gadolinium (GD), Lanthanum (La), YTTrium (Y), Cerium (CERUS), Tungsten (W), Nerūdijantis plienas, Nickel-chromium) Molybdenum (MO), „Iron-Nickel“ (Feni) ir kt.

(2) Keraminiai taikiniai:
ITO, Magnesium Oxide, Iron Oxide, Silicon Nitride, Silicon Carbide, Titanium Nitride, Chromium Oxide, Zinc Oxide, Zinc Sulfide, Silicon Dioxide, Silicon Monoxide, Cerium Oxide, Zirconium Dioxide, Niobium Pentoxide, Titanium Dioxide, Hafnium Dioxide, Titanium Diboride, Zirconium Diboride, Tungsten Trioxide, Alumina (Al₂O₃), Tantalum Pentoxide, Niobium Pentoxide, Magnesium Fluoride, Yttrium Fluoride, Zinc Selenide, Aluminum Nitride, Boron Nitride, Praseodymium Titanate, Barium Titanate, Lanthanum Titanate, Nickel Oxide, and other sputtering target Medžiagos.

2. Pagrindiniai tikslų veiklos reikalavimai

(1) Grynumas
Grynumas yra vienas iš svarbiausių našumo rodiklių, nes jis tiesiogiai veikia plonas plėvelės savybes. Pvz., Mikroelektronikoje vaflių dydžiai išaugo nuo 6 "ir 8" iki 12 ", o linijos plotis sumažėjo iš 0. 5 μm į {0. 13 µm ar mažesnis., Kur 99,995% grynumas kažkada gali patenkinti {9}}. 35 μm, {{11}. Dabar eilutėms reikia 99,999% ar net 99,9999% grynumo.

(2) Priemaišų turinys
Kietos priemaišos ir absorbuotos dujos, tokios kaip deguonis ir vanduo, yra pirminiai užteršimo šaltiniai plonose plėvelėse. Specifinės pramonės šakos, kaip ir puslaidininkiai, turi griežtus reikalavimus šarminiams metalams ir radioaktyviems elementams aliuminyje ir jo lydiniuose.

(3) Tankis
Didelis tankis padeda sumažinti taikinio poringumą ir taip pagerinti dulkinimo plėvelės našumą. Tankis daro įtaką ne tik purškimo greičiui, bet ir filmų elektrinėms bei optinėms savybėms. Tankesni taikiniai taip pat geriau atlaiko šiluminius įtempius purškimo metu.

(4) Grūdų dydis ir paskirstymas
Paprastai taikiniai turi polikristalines struktūras. Smulkesni grūdai linkę pagerinti dulkinimo greitį, o vienodas grūdų dydžio pasiskirstymas užtikrina net plėvelės storią nusėdimo metu.

3. Medžiagos pažymiai
Ta {{{0}}, Ta1, Ta2, Ta9, Ta10, Zr2, Zr0, Gr5, Gr2, Gr1, TC11, TC6, TC4, TC3, TC2, TC1.

4. Programos
Tikslinės medžiagos yra plačiai naudojamos dekoratyvinėms dangoms, drabužiams atsparioms plėvelėms ir elektronikos pramonėje, skirtoje CD, VCD ir magnetiniams disko dangoms.

Volframo-titano (W-TI) filmai
W-TI ir jo lydiniai yra aukštos temperatūros funkcinės dangos, turinčios nepakeičiamus pranašumus. Volframas siūlo aukštą lydymosi tašką, stiprumą ir mažą šiluminio plėtimosi koeficientą. W-TI plėvelėms būdingas mažas elektrinis varža, puikus šiluminis stabilumas ir stiprus atsparumas oksidacijai.

Tradiciniai sujungimo metalai, tokie kaip Al, Cu ir Ag, yra lengvai oksiduojami, blogai sujungti su dielektriniais sluoksniais ir linkę į difuziją į substratus, tokius kaip SI ir SiO₂. Šis elgesys pablogina įrenginio veikimą. Priešingai, „W-Ti“ lydiniai yra puikūs difuzijos barjerai dėl jų stabilių termomechaninių savybių, mažos elektromigracijos greičio ir aukštesnės korozijos bei cheminės atsparumo, sukurdami juos idealiai idealiai veikiančioms ir aukštos temperatūros aplinkai.

5. Vystymosi perspektyvos
W-TI taikiniai pastaruoju metu tapo kritinėmis fotoelektrinių ląstelių dangos medžiagomis, ypač kaip difuzijos barjerai trečiosios kartos saulės elementuose. Dėl jų išskirtinių savybių pastaraisiais metais padidėjo W-TI tikslų paklausa. 2008 m. Pasaulinė paklausa siekė 400 tonų. Tikimasi, kad augant saulės energijos pramonei, šis skaičius žymiai padidės.

Tarptautinė saulės elementų rinka sparčiai plečiasi - 100% kasmet auga. Daugelis kompanijų, įtraukiančių į Vokietijos „WverthSurlfulcell“, JAV pasaulinę saulės energiją, Japonijos „Honda Showa Solar Shell“ ir „Hitachi Metals-Metals“, aktyviai investuoja į šį sektorių.

Kinija sukūrė ypač didelį, didelio tankio ir didelio grynumo W-TI taikinius, naują jonų purškiančių dangos medžiagų klasę. Jie plačiai naudojami kaip kliūtys arba spalvų derinimo sluoksniai ekranuose, dekoratyviniai nešiojamųjų kompiuterių sluoksniai, akumuliatoriaus kapsuliavimas ir fotoelektrinių ląstelių difuzijos barjerai. Jų komercinis ir ekonominis potencialas yra didelis. Be to, jų produkcija gali paskatinti atnaujinimus Kinijos volframo pramonėje, padidindama produkto vertę ir pasaulinį konkurencingumą.